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ダイオキシン類対策-排出水基準値
（単位：pg-TEQ/L）
| 特定施設の種類 | 排出基準 |
|---|---|
| 硫酸塩パルプ（クラフトパルプ）又は亜硫酸パルプ（サルファイトパルプ）の製造の用に供する塩素又は塩素化合物による漂白施設 | 10 |
| カーバイト法アセチレンの製造の用に供するアセチレン洗浄施設 | |
| 硫酸カリウムの製造の用に供する施設のうち、廃ガス洗浄施設 | |
| アルミナ繊維の製造の用に供する施設のうち、廃ガス洗浄施設 | |
| 塩素又は塩素化合物を使用する担体付き触媒の製造の用に供する焼成炉から発生するガスを処理する施設のうち、廃ガス洗浄施設 | |
| 塩化ビニルモノマーの製造の用に供する二塩化エチレン洗浄施設 | |
| カプロラクタムの製造（塩化ニトロシルを使用するものに限る。）の用に供する施設のうち、硫酸濃縮施設、シクロヘキサン分離施設、廃ガス洗浄施設 | |
| クロロベンゼン又はジクロロベンゼンの製造の用に供する施設のうち、水洗施設、廃ガス洗浄施設 | |
| 4-クロロフタル酸水素ナトリウムの製造の用に供する施設のうち、ろ過水施設、乾燥施設、廃ガス洗浄施設 | |
| 2,3-ジクロロ-1,4-ナフトキノンの製造の用に供する施設のうち、ろ過水施設、廃ガス洗浄施設 | |
| ジオキサジンバイオレットの製造の用に供する施設のうち、ニトロ化誘導体分離施設、還元誘導体分離施設、ニトロ化誘導体洗浄施設、還元誘導体洗浄施設、ジオキサジンバイオレット洗浄施設及び熱風乾燥施設 | |
| アルミニウム又はその合金の製造の用に供する焙焼炉、溶解炉又は乾燥炉から発生するガスを処理する施設のうち廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 | |
| 亜鉛の回収（製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る。）の用に供する施設のうち、精製施設、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 | |
| 使用済み担体付き触媒からの金属の回収（ソーダ灰を添加して焙焼炉で処理する方法及びアルカリにより抽出する方法（焙焼炉で処理しないものに限る。）によるものを除く。）の用に供する施設のうち、ろ過施設、精製施設、廃ガス洗浄施設 | |
| 廃棄物焼却炉（火床面積0.5平方メートル以上又は焼却能力50Kg/h以上）に係る廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設、灰の貯留施設であって汚水又は廃液を排出するもの | |
| 廃PCB等又はPCB処理物の分解施設及びPCB汚染物又はPCB処理物の洗浄施設及び分離施設 | |
| フロン類の破壊（プラズマを用いて破壊する方法、廃棄物混焼法、液中燃焼法、過熱蒸気反応法）の用に供する施設のうち、プラズマ反応施設、廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設 | |
| 水質基準対象施設に係る汚水又は廃液を含む下水を処理する下水道終末処理施設 | |
| 水質基準対象施設を設置する工場又は事業場から排出される水の処理施設 |
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